Filmes finos polimerizados a plasma apresentam estruturas amorfas, reticulados, que os tornam resistentes a ataques químicos em meios ácidos ou básicos, além de serem aderentes aos mais diversos tipos de substratos. Tais propriedades são interessantes para diversas aplicações tecnológicas, mas são fortemente dependentes dos parâmetros do processo, tais como: tipo de reator, potência e pressão da descarga, tipo de monômero, temperatura do substrato, etc. Neste trabalho, os filmes foram produzidos a partir de uma mistura de benzeno e argônio, sendo o porta-substrato aquecido resistivamente a 280 °C. Os parâmetros de deposição foram radiofreqüência de 13,56 MHz, potência de 50 W e pressão de 5 a 18 Pa. A estrutura molecular dos filmes foi investigada por espectroscopia no infravermelho, entre 4000 e 1000 cm-1. A molhabilidade e energia de superfície foram avaliadas através de medidas de ângulo de contato, usando um goniômetro Ramé-Hart 100-00.
