AVALIAÇÃO ELETROQUÍMICA DA RESISTÊNCIA A CORROSÃO DE FILMES METÁLICOS DEPOSITADOS POR MAGNETRON SPUTTERING EM AÇOS ABNT 4340 E 1020

Autores

  • S. A. Bilac
  • D. S. Figueira
  • L. C. Fontana
  • F. G. Mittelstadt
  • C. V. Franco

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v12i1-2.336

Resumo

Este trabalho discute a possibilidade de se depositar, via Magnetron Sputtering, filmes de titânio, aço inox, inconel e alumínio, com o intuito de obter camadas resistentes à corrosão em soluções de NaCl a 3% e KNO3 a 1,25 mol.dm-3. Foram feitas curvas potenciodinâmicas dos filmes depositados (nas soluções acima descritas) e comparadas com as respectivas curvas do material puro, “bulk”. Estes ensaios indicam que há uma acentuada melhora no comportamento das amostras recobertas face ao ataque das soluções corrosivas.

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Publicado

2008-08-08

Edição

Seção

Artigos