O crescimento de camadas superficiais sobre uma amostra de chumbo, exposta a oxigênio com vapor d'água à temperatura ambiente,foi observado pela técnica ESCA.
A coleta de dados a 20°, 45° e 75° em relação ao plano da superfície da amostra possibilitou verificar que sobre o substrato metálico existe um composto cujos níveis 4f5/2,7/2 do chumbo apresentam um deslocamento quimico de1,25 eV em relação ao chumbo metálico.Sobre este composto, um outro com deslocamento químico de2,05 eV. Também há evidências de uma camada fina (2A) perto da superficie, com deslocamento químico aproximadamente nulo.
Observaram-se alterações nas espessuras destas camadas em função do tempo decorrido após a última exposição ao ambiente oxidante.
