v. 8 n. 1-2 (1989)

Artigos

• PROPERTIES AND DEGREDATION OF Au-GaAs CONTACTS

  P. H. Holloway, Lu- Min Yeh, Y. -J. Xie

  1-5

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• REAÇÕES NA INTERFACE ENTRE OURO E SILÍCIO AMORFO HIDOGENADO

  A. A. Pasa, C. E. N. Gatts, W. Losch

  6-9

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• EPITAXIA DE COMPOSTOS III—V SOBRE SUBSTRATOS DE SILÍCIO

  R. P. de Carvalho, I. F. L. Dias, J. C. Bezerra, A. G. de Oliveira

  10-11

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• CARACTERIZAÇÃO MICROESTRUTURAL DE FILMES DE ÓXIDO DE ÍNDIO-ESTANHO

  A. M. Testa, A. M. Silva, W. Losch

  12-15

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• DETERMINAÇÃO DO COEFICIENTE DE ABSORÇÃO ÓTICA DO SILÍCIO AMORFO HIDROGENADO POR ESPECTROSCOPIA DE DEFLEXÃO FOTOTÉRMICA

  H. R. Paes Jr., W. Losch, G. H. Bauer

  16-18

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• DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE In203:Sn POR EVAPORAÇÃO REATIVA

  L. R. O. Cruz, N. Dhere, I. Matoso, R. Alves, C. L. Ferreira

  19-22

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• FORMAÇÃO DE SILICETOS DE PLATINA EM LIGAS DE SILICIO AMORFO HIDROGENADO

  C. Gatts, W. Losch, W. Beyer, H. Wagner

  23-26

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• ESTUDO DA INTERFACE GaAs/GaInAs POR ESPECTROSCOPIA AUGER E EROSÃO IÔNICA

  J. Morais, T. A. Fazan, M. A. Sacilotti, R. Landers

  27-30

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• UM ESTUDO DA OXIDAÇÃO DOS SISTEMAS Au/Pb e Ag/Pb

  A. C. Peterlevitz, R. A. Douglas

  31-34

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• ESTUDO EXPERIMENTAL DE OSCILAÇÕES FORÇADAS NO ORBITRON

  J. C. Thomaz Jr., R. A. Douglas, C. V. Speller

  35-38

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• CONSTRUCÃO DE UM ELIPSOMETRO PARA CARACTERIZAÇÃO ÓPTICA DE SUPERFÍCIES

  R. Hübler, F. Horowitz

  39-41

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• EFICIENCIA DA RAZÃO DE AQUECIMENTO DE UM PLASMA EM FUNÇÃO DO VOLUME RESSONANTE E DO EFEITO DO BOMBEIO MAGNÉTICO

  C. da C. Rapozo, A. S. de Assis, G. H. Cavalcanti, N. L. P. Mansur

  42-45

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• ONDAS ÍON-ACÚSTICAS NO PLASMA MAGNETIZADO

  C. da C. Rapozo, G. H. Cavalcanti, A. S. de Assis, P. H. Sakanaka, H. R. T. Silva

  46-48

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• INTERFERÔMETRO HETERÓDINO, TIPO MACH-ZEHNDER, PARA A DETERMINAÇÃO DE PLASMAS PRODUZIDOS POR LASER

  I. C. Oliveira, L. C. S. Goes, J. P. Sudano, J. E. B. Oliveira

  49-52

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• ESTUDO DA DESCARGA NA MÁQUINA DE PlASMA QUIESCENTE DO INPE

  J. G. Ferreira, J. L. Ferreira, G. O. Ludwig, H. S. Maciel

  53-56

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• FABRICAÇÃO E TESTES E ANÉIS DE RULON PARA LIQUEFATORES OU REFRIGERADORES DE CICLO STIRLING

  J. F. Ordonez, T. Shiosawa

  57-60

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• CATALISADORES DE NiO SUPORTADOS SOBRE ALUMINA:INFLUÊNCIA DA TEMPERATURA DE CALCINAÇÃO NO ESTADO QUÍMICO DO Ni.

  R. G. Sakamoto, R. C. G. Vinhas, R. Fazan, M. Schmal, S. de Castro

  61-63

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• MODELAMENTO MATEMÁTICO DO PROCESSO DE ABSORÇÃO A DOIS FÓTONS EM CRISTAIS DE SAIS DE PRATA

  A. W. Mól, V. Baranauskas, A. F. Fausto

  64-67

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• PROTÓTIPO DE DEWAR COM CINCO JANELAS ÓTICAS PARA INTERVALO DE TEMPERATURA DE 55K-400K

  M. Siu Li

  68-69

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• PROTÓTIPO DE VÁLVULA PARA VÁCUO COM FOLE METÁLICO

  R. A. B. Costa, M. Siu Li

  70-71

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• RUPTURA DE GÁS ARGÔNIO POR CAMPOS DE RADIO-FREQUÊNCIA

  J. Amorim, H. S. Maciel, J. P. Sudano

  72-74

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• HIGH VACUUM PUMPS AND SELECTED EXAMPLES FOR THEIR APPLICATIONS

  G. Schäfer

  75-78

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• O ESTUDO DE SUPERCONDUTORES DE ALTA TEMPERATURA DE TRANSIÇÃO-UMA REVISÃO

  N. G. Dhere

  79-82

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• DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS SUPERCONDUTORES DE Bi-Sr-Ca-Cu-O

  N. G. Dhere, R. G. Dhere, J. Moreland

  83-86

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• FABRICAÇÃO DE UM CONJUNTO DE PULVERIZAÇÃO CATÓDICA TIPO MAGNETRON

  N. G. Dhere, C. L. Ferreira, L. R. O. Cruz, L. F. Cruz, I. G. Mattoso

  87-89

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• RESULTADOS DA OPERAÇÃO DO CANHÃO DE ELÉTRONS, PARA FUSÃO DE METAIS, DESENVOLVIDO NO IEAv

  A. J. Balloni, A. C. J. Paes, A. C. C. Migliano

  90-92

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• INSTALAÇÃO DE CENTRALCRIOGÊNICA PARA PRODUÇÃO E DISTRIBUIÇÃO DE GÁS NATURAL LIQUEFEITO(-161,49°C À 1 atm)

  J. F. Ordoñez, A. de S. Brito

  93-95

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• DESTILAÇÃO À VÁCUO DE ESPONJA DE TITÂNIO

  F. L. L. Amaral

  96-99

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• O NIÓBIO COMO ALTERNATIVA PARA PEÇAS DE UHV

  I. F. L. Dias, R. P. de Carvalho, J. C. Bezerra, A. G. Oliveira

  100-102

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• LIGAS METÁLICAS DE URÂNIO PARA EMPREGO EM REATORES RÁPIDOS REGENERADORES

  C. Moura Neto, O. S. Pires

  103-108

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• FILTROS NEUTROS PARA ÓTICA

  J. Hönel, M. A. Antonio, J. G. Ferreira Jr., S. C. Zilio

  109-111

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• MODELAMENTO COMPUTACIONAL DO PROCESSO DE LPCVD: UNIFORMIDADE RADIAL

  M. Tsuzuki, A. C. Rodolpho, V. Baranauskas

  112-115

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• EPITAXIA POR FEIXE MOLECULAR DE SEMICONDUTORES III-V

  J. C. Bezerra, I. F. L. Dias, R. P. Carvalho, A. G. Oliveira, C. A. C. Mendonça, F. Plentz, E. A. Menezes

  116-118

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• DESENVOLVIMENTO DE TÉCNICAS DE CRESCIMENTO SELEIIVO DE OURO PARA CIRCUITOS HÍBRIDO EM FILME FINO

  M. R. Finardi, M. Barnett, C. A. Finardi

  119-121

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• AQUECIMENTO DO PLASMA NA RESSONÂNCIA HÍBRIDA NA MÁQUINA “LISA”

  J. C. X. da Silva, C. da C. Rapozo

  122-125

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• EFEITO DA RÁDIO FREQÜÊNCIA NA CAPACITÂNCIA DA SHEATH NUM PLASMA DE BAIXA DENSIDADE

  L. T. Carneiro, C. da C. Rapozo

  126-128

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• DETERMINAÇÃO DE ESPESSURA DE FILMES FINOS PELA TÉCNICA DE EDS NO MICROSCÓPIO ELETRÔNICO DE VARREDURA

  R. Pascual, A. Saavedra, L. R. Cruz, C. L. Ferreira, D. T. Gomes

  129-132

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• FILMES FINOS DE POLÍMEROS FLUORADOS DEPOSITADOS POR PLASMA DE MISTURAS DE C2H2 e SF6.

  S. G. Castro, W. Atolino, A. Albarici, M. A. Bica de Moraes

  133-135

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• SIMULAÇÃO DA RUPTURA ELÉTRICA DO N2 INDUZIDA PELA RADIAÇÃO LASER DE 1O,61?m

  C. A. B. Silva, M. Roberto, L. C. S. Goes, J. P. Sudano

  136-140

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• MEDIDAS DE CONDUTIVIDADE TÉRMICA DE SÓLIDOS E RESISTÊNCIA TÉRMICA DE CONTATO SOB VÁCUO

  E. C. Garcia, P. Carajilescov

  141-145

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• PROGRAMA DE REATORES RÁPIDOS DO INSTITUTO DE ESTUDOS AVANÇADOS

  Y. Ishiguro

  146-151

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• MODELAMENTO PARA CÉLULA SOLAR SIMPLIFICADA

  A. Corinna, A. M. Jorge

  152-156

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• PRODUÇÃO DE NEUTRONS TERMONUCLEARES EM PLASMAS PRODUZIDOS

  C. A. B. Silva, A. C. B. de Carvalho, J. P. Sudano, L. C. S. Góes

  157-161

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• STATIONARY CAVITONS IN A MAGNETIC MIRROR

  A. J. Balloni, J. Busnardo Neto

  162-167

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• MODELAMENTO ESTÁTICO E DINÂMICO DO PERFIL DE SENSIBILIZAÇÃO COERENTE EM PLACAS DE ALTA RESOLUÇÃO (PAR)

  V. Baranuskas, A. W. Mól

  168-172

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• ESTAÇÃO DE ENSAIOS DE MATERIAIS VOLÁTEIS CONDENÁVEIS (EEMVC)

  J. S. de Almeida, M. Nimomiya

  173-177

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• ATIVIDADES DE PESQUISA DO LSI NA ÁREA DE CORROSÃO POR PLASMA

  J. A. Zuffo, A. C. Seabra, M. L. P. da Silva, W. J. Freitas

  178-185

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• SPUTTERED,EVAPORATED AND CVD-PROCESSED THIN FILM TRANSISTORS FOR ADDRESSING FLAT PANEL LC-DISPLAYS

  E. Lüeder

  186-195

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• CARACTERIZAÇÃO DA DEPOSIÇÃO DE UM SISTEMA DE “SPUTTERING” DC

  M. A. Silveira, A. P. Mammana

  196-199

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• THE ROLE OF THIN FILM MATERIALS ON THE TECNOLOGY FOR INTEGRATED CIRCUIT FABRICATION

  F. O. Sequeda

  200-209

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• AN R.F PLASMA SYSTEM FOR PRODUCING TWISTED NEMATIC LIQUID CRYSTAL CELLS A REVIEW

  G. J. Sprokel

  210-217

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• CURRENT SITUATION OF AMORPHOUS-Si TECHNOLOGY FOR SOLAR CELLS

  K. Takahashi

  218-223

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