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v. 11 n. 1 (1992)
v. 11 n. 1 (1992)
Publicado:
2013-07-13
Editorial
Editorial
V. Baranauskas, A. R. Douglas
1-6
PDF
Artigos
A Second Look at Reactive Ion-Beam Etching and Chemically-Assited ion-Beam Etching
K. M. Eisele
3-10
PDF
Etching with an ECR Plasma
W. J. Varhue, A. J. Watts
11-19
PDF
Electrical and Plasma Characteristics of RF Discharges for Plasma Processing
P. Bletzinger
20-25
PDF
Plasma Polymerization in hexamethyldisiloxane-argon discharges produced in a magnetron system with a copper cathode
T. Shiosawa, R. P. Mota, M. C. Gonçalves, J. H. Nicola, M. A. Bica de Moraes
26-32
PDF
Active species in Ar-N2-H2-CH4 flowing rnicrowave discharges for hard coatings
A. Ricard, H. Malvos, H. Michel
33-38
PDF
FORMAÇÃO DE CoSi A PARTIR DE Co DEPOSITADO EM AMBIENTE OXIDANTE
W. J. Freitas, J. W. Swart
41-45
PDF
DEPOSIÇÃO REATIVA DE FILMES DE NITRETO DE SILICIO OBTIDOS ATRAVÉS DE UM SISTEMA RF PLANAR MAGNETRON SPUTTERING
A. Flacker, A. C. Pagoto, A. Fissore
46-49
PDF
UNIF0RMIDADE EM ESPESSURA DE FILMES FINOS PREPARADOS POR RF. SPUTTERING
A. Lourenço, R. T. Assumpção, A. Gorenstein
50-53
PDF
FILMES FINOS ELETROCRÓMICOS DE COOX DEPOSITADOS POR “SPUTTERING” R.F.
W. Estrada, M. C. A. Fantini, C. N. P. Fonseca, S. C. de Castro, A. Gorenstein
54-58
PDF
CRESCIMENTO EPITAXIAL DE InxGax-1As EM GaAs COM QUALIDADE EPTOELETRÔNICA
P. R. F. Ribas
61-65
PDF
CRESCIMENTO DE MONOCRISTAIS DE Pb1-x1SnxtTe PELO MÉTODO DE BRIDGMAN INVERSO
C. Y. An, A. H. Franzan, S. Eleutério Filho, M. R. Slomka
66-69
PDF
INFLUÊNCIA DE UM AMBIENTE REATIVO ATIVADO NAS PROPRIEDADES ELÉTRICAS DE FILMES DE In203:Sn
L. R. O. Cruz, O. J. Santos
72-75
PDF
ESTUDO DE DEPOSIÇÃO DE Al SOBRE Sn
A. C. Peterlevitz, R. A. Douglas, R. Landers
76-82
PDF
EFEITO FORA DE CENTRO DO Cu+ EM FILMES DE KCl
L. Oliveira, C. A. Cruz, M. A. P. Silva, M. Siu Li
83-86
PDF
DEPENDÊNCIA DA TENSÃO MECÊNICA DE INTERCALAÇÃO IONICA COM A ESTRUTURA EM FILMES DE ÓXIDOS DE V, Nb E Ni
J. Scarmino, M. C. A. Fantini, A. Gorenstein
87-92
PDF
VARIAÇÃO DA TENSÃO MECÂNICA E DAS PROPRIEDADES OPTICAS DE FILMES ELETROCRÔMICAS DE NiOx(x<1) EM ELETRÓLITOS AQUOSOS
J. Scarmínio, A. Gorenstein, F. Decker
93-96
PDF
APPLICATIONS OF FOURIER TRANSFORM ION CYCLOTRON RESONANCE SPECTRONETRY TO GAS PHASE IONIC PROCESSES
D. L. Antanaitis, H. V. Linnert, J. J. Menegon, J. M. Riveros
97-101
PDF
PHOTODEPOSITION FROM COLLOID SOLS
A. Peled, N. Mirchin
104-112
PDF
HIGH PERFORMANCE THIN-FILM TRANSISTORS FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAYS
M. Matsumura
115-119
PDF
ESTUDO DE UM FORNO TÚNEL AQUECIDO POR UMA TOCHA DE PLASMA
A. Marotta, L. O. B. da Silva, L. O. M. da Silva
122-125
PDF
OXIDATION OF SOME VAPOR FREE LIQUID COMPOUNDS BY A LOW PRESSURE OXYGEN PLASMA
D. Iococca, P. Patiño, M. Ropero, F. E. Hernandez
126-134
PDF
PADRÃO INTERNACIONAL PARA DETERMINAÇÃO DE DESEMPENHO DE BOMBAS IÔNICAS- DETERMINAÇÃO DA VELOCIDADE DE BOMBEAMENTO
C. Santos, M. J. Ferreira, R. Landers, C. P. Pinelli, G. M. Gualberto
137-139
PDF
PROJETO E AVALIAÇÃO TEÓRICA DO DESEMPENHO DE ESTRUTURAS ACELERADORAS DE ELÉTRONS
C. Fuhmann, V. A. Serrão
142-148
PDF
CRAQUEADOR PARA UM SISTEMA DE CRESCIMENTO EPITAXIAL POR DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM VÁCUO
A. Camilo Jr., M. M.G. de Carvalho, M. A. Cotta
149-152
PDF
MEDIDOR ÓPTICO DE ESPESSURAS DE FILMES FINOS DE CARBONO
N. Ueta, M. Emura, D. Pereira, E. S. Rossi Jr., L. C. Chamon, C. P. da Silva
153-157
PDF
ESTUDO DO SUBSTRATO KAPTON NA PERFORMANCE DE TERMOPILHAS DE FILMES FINOS
J. F. Escobedo, J. M. D. de Melo, S. C. Zilio
158-162
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