Molhabilidade e atividade fotocatalítica de filmes finos de TiOx depositados por magnetron sputtering em diferentes pressões parciais de O2

Autores

  • Rafael Bona Universidade do Estado de Santa Catarina
  • Sthefany Selhorst Universidade do Estado de Santa Catarina
  • Julio César Sagás Universidade do Estado de Santa Catarina
  • Luís César Fontana Universidade do Estado de Santa Catarina
  • Abel André Cândido Recco Universidade do Estado de Santa Catarina

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v36i2.1051

Palavras-chave:

Atividade fotocatalítica, Dióxido de titânio, Triodo magnetron sputtering,

Resumo

Filmes finos de TiOx (x<2) foram depositados por triodo magnetron sputtering variando a pressão parcial de O2 na atmosfera da descarga (Ar+O2) para avaliar o efeito da presença de subóxidos na atividade fotocatalítica e na molhabilidade dos filmes. Medidas de difratometria de raios-X mostram que filmes depositados em baixa pressão parcial de O2 (< 1,3.10-2 Pa) apresentam picos de subóxidos com diferentes estequiometrias. O aumento da pressão parcial leva a uma redução na presença dos subóxidos. As medidas de molhabilidade realizados antes e após a exposição dos filmes à radiação ultravioleta mostram que o efeito de hidrofilicidade fotoinduzida é praticamente ausente quando se usa uma solução “azul de metileno” ao invés da água. Os testes de atividade fotocatalítica mostram maior degradação da solução “azul de metileno” para as amostras depositadas em maiores pressões parciais de oxigênio.

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Publicado

2017-08-14

Edição

Seção

Superfícies e Filmes Finos