Titanium nitride (TiN) coatings were grown on silicon substrates by cathodic cage plasma deposition (CCPD). TiN coatings present interesting properties, such as high hardness, chemical and thermal stabilities, good thermal and electrical conductivities, and corrosion resistance, making them suitable for several technologically important applications. The influence of parameters such as plasma nitriding atmosphere, temperature, and time on the chemical and morphological characteristics of the deposited coatings was investigated by means of Raman spectroscopy, scanning electron microscopy, energy dispersive spectroscopy, and X-ray photoelectron spectroscopy. The results obtained by these characterization techniques revealed that the TiN coatings produced by CCPD presented high quality.
Biografia do Autor
Bartolomeu Cruz Viana Neto, Universidade Federal do Piauí
Professor Associado, Centro de Ciências da Natureza, Departamento de Física.
Francisco Eroni Paz dos Santos, Universidade Federal do Piauí
Professor Adjunto, Centro de Ciências da Natureza, Departamento de Física.
Pedro Augusto de Paula Nascente, Universidade Federal de São Carlos
Professor Titular, Departamento de Engenharia de Materiais. Área de pesquisa: Superfícies, Interfaces e Filmes Finos.
Denise Aparecida Tallarico, Universidade Federal de São Carlos
Professora Adjunta, Campus de Sorocaba, Centro de Ciências em Gestão e Tecnologia, Departamento de Engenharia de Produção.
Valmor Roberto Mastelaro, Universidade de São Paulo
Professor Associado MS 5, Instituto de Física de São Carlos, Departamento de Física e Ciências dos Materiais.
Rômulo Ribeiro Magalhães de Souza, Universidade Federal do Piauí
Professor, Programa de Pós-Graduação em Ciência dos Materiais.
