Study of optical transmittance of photocatalytic titanium dioxide films deposited by radiofrequency magnetron sputtering

Autores

  • Péricles Lopes SantAna
  • José Roberto Ribeiro Bortoleto
  • Nilson Cristino da Cruz
  • Elidiane Cipriano Rangel
  • Steven Frederick Durrant
  • Sofia Azevedo
  • Carina Isabel S Simões
  • Vasco Teixeira

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v39i1.1163

Palavras-chave:

TiO2, RF sputtering, Optical properties, Photocatalysis.

Resumo

The optical transmittance of titanium oxide (TiO2 ) films in the ultraviolet-visible region were studied in this work. Such films have possible application in photocatalysis at room temperature. Among many candidates for photocatalysts, TiO2 is practically the only material suitable for industrial use at present. This is because TiO2 has the most efficient photoacatalysis, the highest stability and the lowest cost. Photochemical reactions include the photoinduced redox reactions of adsorbed substances, or the photoinduced hydrophilic conversion of TiO2 itself. Polyethylene terephthalate (PET) was chosen as the substrate because of its flexibility, high transmission in visible light and low cost. Glass blades were used as substrates for TiO2 films for analysis by optical transmittance spectroscopy. The experimental results show that the TiO2 films deposited on glass were associated with the anatase phase with a [0 0 4] preferred orientation. Ultraviolet near infrared spectroscopy revealed the high transmittance of the films in visible light and high absorption in the ultra-violet region under most deposition conditions.

Biografia do Autor

Péricles Lopes SantAna

Péricles Sant'Ana é natural de Coronel Fabriciano-MG. Graduado em Engenharia de Produção na Universidade Federal de Viçosa - MG em agosto de 2007, concluiu o Curso de Mestrado e Doutorado em Ciência e Tecnologia de Materiais pela Universidade Estadual Paulista (UNESP), no período entre 2008 a 2014. Em seguida, desenvolveu: três meses de atividades de Pós doutoramento no Núcleo de Microscopia e Microanálise, vinculado ao Sistema Nacional de Laboratórios em Nanotecnologia (SisNano/2015) e um ano de Pós-Doutoramento no Instituto Tecnológico de Aeronáutica (CAPES/2015-2016). Tem experiência em Nanotecnologia e Tecnologia de Plasma, atuando nos seguintes temas: Técnicas de Deposição ou Tratamento superficial a plasma (sistema a vácuo), Tecnologia de filmes finos/revestimentos protetivos, Ensaios mecânicos, Acondicionamento de embalagens alimentícias poliméricas, sensores/dispositivos ópticos ou Microeletrônicos. Técnicas de caracterização de superfícies em escala nanométrica: Perfilometria, Molhabilidade a líquidos de prova, Microscopia Eletrônica, Microscopia de Força Atômica, Espectroscopia Raman, Espectroscopia Óptica/Elipsometria, Difração de Raios-X e Simulação computacional. Na área de Gestão, é certificado pelo CREA-SP, foi Auditor e Consultor ISO 9001-2008 com experiência profissional em Arranjo físico, Gestão de Projetos, Planejamento da Produção e Projeto de Produto.

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Publicado

2020-05-31

Edição

Seção

Superfícies e Filmes Finos