INFLUÊNCIA DA PRESSÃO E DA COMPOSIÇÃO DA ATMOSFERA GASOSA NA MICROESTRUTURA DE FILMES DE CdTe DEPOSITADOS PELA TÉCNICA CSS

Autores

  • V. D. Falcão
  • W. A. Pinheiro
  • C. L. Ferreira
  • L. R. O. Cruz

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v24i1.123

Resumo

Filmes finos de CdTe são utilizados como camada absorvedora em células solares de CdS/CdTe. A microestrutura desta camada é determinante no processo de conversão fotovoltaica e é basicamente controlada pelos parâmetros utilizados durante o processo de deposição. Neste trabalho foram estudados os efeitos da pressão e da introdução de oxigênio na atmosfera gasosa sobre a microestrutura de filmes de CdTe depositados pelo processo CSS. As propriedades microestruturais dos filmes foram afetadas pela pressão e pela presença de oxigênio na câmara de reação. Para filmes depositados em atmosfera de argônio puro, observou-se um aumento do tamanho de grão e um decréscimo da taxa de deposição com o aumento da pressão. A introdução de oxigênio na atmosfera gasosa levou a um decréscimo na taxa de deposição. Além disso, filmes depositados em uma mistura de argônio/oxigênio têm tamanhos de grão menores que aqueles depositados em uma atmosfera de argônio puro, além de serem mais ricos em Te. Não foi observada a presença de óxidos em virtude da adição de oxigênio na atmosfera gasosa.

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Publicado

2008-03-01

Edição

Seção

Artigos