Projeto, fabricação e caracterização de um sistema de pulverização catódica DC de baixo custo

Autores

Giuseppe Antonio Cirino Universidade Federal de São Carlos – Centro de Ciências Exatas e de Tecnologia – Departamento de Engenharia Elétrica – São Carlos (SP), Brasil. https://orcid.org/0000-0003-0730-5299
Henrique Moreira Pinto Universidade Federal de São Carlos – Centro de Ciências Exatas e de Tecnologia – Departamento de Engenharia Elétrica – São Carlos (SP), Brazil. https://orcid.org/0009-0006-6069-5782

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v42i1.1239

Resumo

Este trabalho reporta a caracterização de um reator planar de deposição por espirramento catódico, operando em regime de corrente contínua (CC). Esta caracterização foi feita por meio da quantificação do desempenho do sistema de vácuo, da fonte de alimentaçao DC e das características de ruptura da descarga operando em baixa pressão. Este sistema pode ser empregado para a deposiçao de filmes finos metálicos tais como cobre, ouro, prata, entre outros, em substratos de até 3 polegadas de diâmetro.