Descrevemos um sistema de magnetron sputtering em rádio freqüência construído para a produção de filmes de GaAs amorfo, e analisamos a transmitância óptica dos filmes depositados em função da potência de radio freqüência utilizada e da pressão total na câmara utilizados durante o crescimento. Investigamos também a influência da incorporação de hidrogênio sobre a absorção óptica e sobre a estrutura do material. Os filmes com melhores propriedades ópticas foram produzidos com os seguintes parâmetros: pressão total – 4.5x10-2 torr, fluxo de argônio – 20 sccm, fluxo de hidrogênio - 10 sccm, densidade de potência RF – 400 mW/cm2.
