INFLUÊNCIA DAS LIMPEZAS QUÍMICAS ÚMIDAS H<sub>2</sub>O/H<sub>2</sub>O<sub>2</sub>/NH<sub>4</sub>OH E H<sub>2</sub>O/HF/HNO<sub>3</sub> NA MICRO-RUGOSIDADE DE LÂMINAS DE SILÍCIO
O objetivo desse estudo é analisar o efeito de algumas etapas químicas de receitas de limpeza convencionais na micro-rugosidade superficial de lâminas de silício. Foram estudados os efeitos de variações na concentração do hidróxido de amônia na solução NH4OH: H2O2: H2O e a concentração do ácido nítrico na solução HNO3 : HF : H2O. A microrugosidade da lâmina de silício, após a limpeza química, foi caracterizada pela técnica de microscopia de força atômica utilizando o equipamento “Atomic Force Microscopy – Nanoscope Digital” em varreduras de 1mmx1mm. Com base nos resultados, foi possível apontar as condições que resultam em menor micro-rugosidade uperficial.
