CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS DE ÓXIDOS DE TITÂNIO POR ESPECTROSCOPIA DE FOTOELÉTRONS

Autores

  • C. E. B. Marino
  • P. A. P. Nascente
  • R. C. Rocha-Filho
  • S. R. Biaggio

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v18i1.237

Resumo

A grande estabilidade química do titânio metálico se dá pela formação de seu óxido, TiO2, sobre sua superfície. Em filmes deste óxido obido por anodização eletroquímica, pode ocorrer a incorporação de espécies advindas do eletrólito, o que causaria sérias alterações nas propriedades do óxido final. Em decorrência da incorporação de íons estranhos, o óxido final pode apresentar estrutura de bicamada, fato este observado em Ta2O5 e Al2O3 e, também, pode ser responsável pelo processo de ruptura do filme. Neste trabalho, filmes de óxidos de titânio foram obtidos sob condições galvanostáticas (até 50 V) em solução de tampão fosfato com pHs iguais a 1 e 5. Os filmes foram caracterizados por espetroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS) e microscopia eletrônica de varredura (SEM) para ambos as condições de pH.

Downloads

Publicado

2008-05-16

Edição

Seção

Artigos