A produção de filmes de diamante sobre grandes áreas é muito promissora para aplicações industriais. Os filmes poderiam ser fracionados, permitindo a utilização como ferramentas de corte, janelas óticas, dissipadores de calor e dispositivos semicondutores. Um método de deposição que é relativamente barato, fácil de usar e produz quantidades razoáveis de filmes policristalinos de diamante é a deposição química a vapor por filamento quente (HFCVD). Entretanto, esta técnica apresenta algumas desvantagens, como a contaminação do filme com materiais do filamento, que podem causar tensões internas. Um método de crescimento de duas etapas pode ser empregado para melhorar a qualidade dos filmes de diamante crescidos por HFCVD. Neste trabalho, filmes de diamante foram depositados sobre um substrato de Si(100) com área de 45 cm2 e espessura de 500 µm, empregando-se um sistema de HFCVD. As amostras foram então tratadas em uma solução saturada de H2SO4:CrO3 e depois lavadas em uma solução (1:1) de H2O2:NH4OH. Depois deste procedimento, uma segunda deposição foi feita. Os filmes de diamante foram caracterizados por espectroscopia de espalhamento Raman (RSS), microscopia eletrônica de varredura (SEM) e espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS) Obtivemos filmes de alta pureza com uma espessura de 60 µm e que apresentavam uniformidade sobre uma grande área.
