Neste trabalho dados obtidos por microscopia de força atômica (AFM) e por microscopia eletrônica de varredura (MEV) referentes à rugosidade de uma superfície cerâmica são analisados e comparados numericamente. Linhas de tons de cinza correspondentes à feixe de elétrons secundários retroespalhados, obtidas na análise por MEV, são normalizadas pela correspondente máxima altura dos picos superficiais medidos por AFM. Os dados são comparados em termos de valores da rugosidade média R3 e da rugosidade média quadrática Ra (RMS), apresentando boa concordância, com desvios não superiores a 15% entre ambas as técnicas. Os resultados apontam para a validade da metodologia proposta.
