No processo de deposição térmica a vácuo de filmes ópticos de ZnS, desenvolvemos procedimento metrológico envolvendo intercomparação de resultados, obtidos pelas técnicas "in situ" de Monitoração Óptica (MO) e a Cristal de Quartzo (MCQ), em tempo real, e por calibrações baseadas em medidas pós-decomposição, pelo Método das Curvas Envoltórias (MCE) em espectofotometria. Através do MCE, dentro da sua incerteza experimental na espessura óptica (1,10 +/- 0,02 mm), obtivemos concordância com o valor esperado na MO, validando seu procedimento. Ainda na MO, apresentamos levantamento detalhado das incertezas envolvidas (de +/- 4 a +/- 7 nm) em cada extremo da curva de transmitância. No caso da MCQ, determinamos o fator geométrico (1,03 +/- 0,02) por comparação com, medidas pelo MCE. Da comparação entre os resultados da MCQ (supostos valores constantes de densidade e impedância acústica) com os da MO (a partir dos extremos na curva de transmitância), identificamos discrepâncias em espessura óptica (até 54 nm, 7 vezes a incerteza na MO) que evidenciam vantagens significativas da MO sobre a MCQ na produção individualizada de filmes inomogêneos transparentes que tenham tolerâncias ópticas estreitas.
