REATOR DE GRANDE PORTE PARA CRESCIMENTO DE FILME DE DIAMANTE-CVD AUTOSUSTENTADO USANDO A TÉCNICA ASSISTIDA POR FILAMENTO QUENTE

Autores

  • J R. Moro
  • V. J. Trava-Airoldi
  • E. J. Corat
  • N. F. Leite

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v16i1.285

Resumo

Estudos para escalonamento de área de crescimento de filmes de diamante-CVD (Chemical Vapor Deposition), mostraram que a técnica assistida por filamento quente apresenta algumas vantagens em relação às demais técnicas. Entre estas vantagens, estão o baixo custo de instalação, operação, manutenção e controle dos parâmetros de crescimento. São apresentados, neste trabalho, resultados de estudos de crescimento de diamante-CVD utilizando a técnica assistida por filamento quente alimentada por uma fonte de corrente alternada (AC). Uma fonte AC é usada alternativamente, com o propósito de diminuir custos, principalmente quando se deseja obter filmes em grandes áreas de substratos. Observa-se que os parâmetros de crescimento de filmes de diamante-CVD praticamente não se alteram quando a fonte de alimentação é AC. A qualidade do filme, bem como, a taxa de crescimento como função da temperatura do substrato mostram equivalência com os resultados obtidos quando a fonte de alimentação do filamento é de corrente contínua (DC). Medidas do nível AC e DC de temperatura do filamento é efetuado utilizando um detetor de silício convencional. Técnicas por espectroscopia de espalhamento Raman e por microscopia eletrônica de varredura foram usadas para observar a qualidade e morfologia dos filmes, respectivamente.

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Publicado

2008-06-19

Edição

Seção

Artigos