Para estudar o confinamento do plasma em um sistema Triodo Magnetron Sputtering (TMS), o campo magnético central foi produzido por um conjunto de ímãs permanentes e uma bobina cilíndrica em torno dos ímãs centrais. Dessa forma torna-se possível a variação da intensidade do campo magnético com o sistema em operação. Foi relacionado a variação da corrente no alvo e no substrato em função de um parâmetro magnético (intensidade do campo magnético) e outro mecânico (variação da distância tela alvo). Observa-se que o bombardeamento de íons e/ou elétrons no substrato pode ser controlado através desses parâmetros. Como essas variáveis são independentes, este sistema apresenta grande versatilidade para a deposição de filmes sobre substratos sensíveis ao bombardeamento de elétrons e/ou íons. Dessa forma, este sistema oferece diversas possibilidades para a deposição de filmes.
Biografia do Autor
Luís César Fontana, Universidade do Estado de Santa Catarina
Departamento de Física
Pesquisa: Plasma; Tratamento de superfícies; Propriedades físicas de superfícies
