ESTUDO XPS/AS DE SISTEMAS Au/Nb/Si

Autores

  • A. C. Peterlevitz
  • W. A. Picolo
  • I. Doi
  • V. Baranauskas

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v11i2.371

Resumo

Amostras de Au/Nb depositadas sobre substratos de Si foram submetidas a tratamentos térmicos entre 300-800°C e analisadas pelas Espectroscopias de Fotoelétrons de raio-X e de Elétrons Auger. Observou-se com a erosão iônica (sputtering) progressiva das amostras que a estrutura de camadas do filme manteve-se inalterada após os tratamentos em 300° e 500° C, mas não após 800°C. O recozimento a temperatura mais elevada levou a formação de fases cristalográficas distintas, uma rica em Au e outra não, conforme mostrou a análise Auger de cada fase. Para temperaturas médias o Au constitui uma excelente camada protetora contra a oxidação do Nb. Este oxidou somente com a ruptura da camada de Au no tratamento a 800°C. A interface filme/substrato manteve-se bem definida em todas as amostras.

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Publicado

2008-09-19

Edição

Seção

Artigos