A técnica de eletroformação foi empregada com sucesso na construção da primeira estrutura do acelerador linear de elétrons. O procedimento consiste em depositar, por processo eletroquímico, uma camada de cobre sobre a superfície lateral cilíndrica da estrutura aceleradora, constituída por um empilhamento de cavidades de cobre OFHC. A eletroformação é realizada com a estrutura em movimento de rotação constante e o depósito se processa a uma taxa de aproximadamente 0,78 mm/dia; foi depositada uma camada com espessura média 4,1 mm. Testes preliminares de alto vácuo, realizados após a eletroformação, revelaram boa estanqueidade da secção. Os ensaios com radiofreqüência mostraram bom desempenho da estrutura, tendo sido mantidas inalteradas as características físicas da mesma.
