CARACTERIZAÇÃO ÓTICA DO FOTO/ELETRO “RESIST” As2S3

Autores

  • J. B. de Campos
  • F. C. da Silva
  • S. Paciornik
  • L. C. S. do Carmo
  • R. A. Nunes

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v10i2.402

Resumo

Filmes de Trissulfeto de Arsênio (As2S3) sofrem uma série de mudanças físico-químicas quando submetidos à radiação eletromagnética. Estas mudanças estruturais foto-produzidas em filmes finos são de considerável importância tecnológica para a preparação de hologramas e memórias óticas de massa bem como para sua utilização em processos litográficos (óticos, por feixe de elétrons ou raios-x) como material resistente à corrosão. O ciclo de produção e processamento de filmes de As2S3 foi desenvolvido em nosso laboratório. Este ciclo envolve, eventualmente, a dopagem foto-estimulada do filme com Prata para causar variações substanciais das propriedades físicas e químicas. Neste trabalho são apresentadas medidas da variação do índice de refração e da sensibilidade à corrosão de filmes de As2S3 dopados e não dopados em função do tempo de exposição a uma fonte de xenônio.

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Publicado

2008-10-03

Edição

Seção

Artigos