PRODUÇÃO E CARACTERIZAÇÃO DE FILMES ELÉTRON SENSÍVEIS PARA ÓTICA E MICROELETRÔNICA

Autores

  • R. A. Nunes
  • S. Paciornik
  • R. Avillez
  • J. B. de Campos
  • L. C. S. do Carmo
  • F. C. da Silva
  • C. L. Ferreira

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v10i2.404

Resumo

Filmes de materiais dielétricos ou semicondutorres de alto “gap” eletrônico e filmes de centros de cor foram produzidos e caracterizados pelo grupo Integrado de Materiais da PUC (GIMPUC). Aplicações envolvendo o uso de feixes focalizados são discutidas. Para caracterização dos filmes produzidos foram utilizadas técnicas de difração de raio-X, de espectroscopia de transmissão ótica e de fotoluminescência. Como exemplo, as propriedades óticas do LiF (fluoreto de lítio) são estudadas. A possibilidade de aplicação de Lif como hospedeiro de centros de cor, útil para produção de lasers de filmes finos é discutida. A produção, caracterização ótica e as possibilidades de utilização do semicondutor As2S3 como resiste para foto/elétron litografia são também discutidas.

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Publicado

2008-10-03

Edição

Seção

Artigos