CONSTRUÇÃO DE UM SISTEMA PARA PREPARAÇÃO DE FILMES DE SEMICONDUTORES DO TIPO III-V

Autores

  • J. H. D. da Silva
  • J. I. Cisneros
  • M. P. Cantão
  • E. C. Sittar

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v10i1.452

Resumo

Neste trabalho apresentamos um sistema de evaporação tipo flash construído no IFGW-UNICAMP para a preparação de filmes amorfos e policristalinos de semicondutores do tipo III-V. O sistema é constituído por uma câmara de vácuo em cujo interior existe um alimentador capaz de fornecer um suprimento contínuo de pó de material semicondutor a um cadinho aquecido. Como exemplo de aplicação apresentamos os resultados das caracterizações óptica e elétrica de um conjunto de filmes de antimoneto de gálio preparados com diferentes temperaturas de cadinho e substratos a 20°C. foram observadas variações fortes das propriedades ópticas em função das condições de preparação e a condutividade elétrica das amostras semicondutoras apresentou um aumento abrupto À temperatura de 518K o qual foi associado à cristalização.

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