INFLUÊNCIA DA POTÊNCIA NA COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE FILMES DEPOSITADOS A PLASMA A PARTIR DA MISTURA DE C₂H₂/ARGÔNIO

Resumo

Os filmes de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) possuem propriedades interessantes para aplicações tecnológicas, tais como alta dureza, resistência ao desgaste, baixo coefi-ciente de atrito e biocompatibilidade. Neste trabalho, os filmes foram depositados a plasma por radiofrequência a partir de uma mistura de acetileno (C₂H₂) e argônio (Ar), buscando investigar a influência da potência (P) na composição química de filmes depositados através do processo PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Os parâmetros de deposição foram: radiofreqüência de 13,56 MHz, potência variando de 5 a 125 W e pressão de 9,5 Pa. A estrutura molecular dos filmes foi investigada por espectroscopia Raman e espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS).