Filmes finos de nitreto de titânio (TiN) foram depositados sobre substratos de silício (111) e aço ABNT 1020 através da técnica de magnetron sputtering reativo variando a razão Ar/N2 de 11 até 13. Polarização de substratos (Bias Voltage) foi utilizada a fim de analisar a dinâmica do processo de formação dos filmes e o comportamento dos mesmos frente a ataques corrosivos. A estrutura cristalina das amostras de TiN foi analisada por XRD e a estequiometria por NRA. Os testes de resistência à corrosão foram realizados pela técnica de Voltametria Cíclica, mantendo constante a velocidade de varredura em 10 mV.s-1 em uma solução tampão com pH 5,6. Os resultados são discutidos em função dos parâmetros de deposição dos filmes finos, mostrando uma forte dependência da dinâmica dos ataques corrosivos com o tipo de polarização aplicada.
