Neste trabalho foi enfatizado o resultado preliminar da obtenção e caracterização de filmes nanocristalino de diamante – CVD sobre o silício. Os filmes foram obtidos utilizando um reator de deposição química de vapor assistido por filamento quente (HFCVD). Durante o processo de deposição, a temperatura do filamento e do substrato e, a variação da concentração de argônio na mistura gasosa foi estudada com o objetivo de avaliar os seus efeitos na qualidade e morfologia dos filmes. Os resultados mostraram que o uso de 80 e 90% vol. de argônio resultaram em filmes com características nanocristalinas avaliadas pela espectroscopia Raman, e tamanho de grãos na ordem de 90 nm observados pela microscopia eletrônica de varredura.
