Filmes finos condutores e transparentes são usados em células solares contatos, semicondutores tipo-n e dispositivos óticos eletrônicos. Este artigo faz uma revisão nos diferentes processos de fabrixcação destes filmes, particularmente por pulverização catódica de RF, deposição química a vapor e pirólise com "spray" de haletos de metal, com ênfase especial para o último processo que oferece as vantagens de equipamento simples , baixo custo e propriedades adequadas para várias aplicações. Neste artigo estão incluídos também os resultados dos filmes finos de SnO2-Sb preparados por hidrólise com "spray". Os efeitos da variação da composição, temperaturado substrato, espessura do filme e a adição de agentes redutores como PYROGALLOL sobre as propriedades elétricas e óticasdos filmesforam estudados. Estas experiências indicam que os filmes com transparência ba faixa de 75% a 90% e a resistência da superfície dos filmes(R) na faixa de 100?/? a 500?/? podem ser obtidospor este método.
