Desenvolveu-se um processo de fabricação de fotomáscaras de cromo, empregando-se equipamento de Sputtering DC na deposição dos filmes sobre placas de vidro de elevada planicidade. A tranferência de padão de testes foi realizado através de fotogravaçã, utilizando-sefotorresiste AZ 1350B, obtendo-se resolução de 5?m.
