PERFIL DA DISTRIBUIÇÃO DE DOPANTES NO CRESCIMENTO ANÓDICO DE CAMADAS DE ÓXIDO DE TITÂNIO

Autores

  • B. K. Patnaik
  • G. B. Baptista
  • C. V. Barros Leite
  • E. A. Schweikert
  • D. L. Cocke
  • N. Magnussen
  • O. J. Murphy
  • L. Quiñones

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v6i1-2.667

Resumo

Pastilhas de titânio foram oxidadas por meio do processo eletrolítico em soluções de 0,5 M Na2WO4, 2 H2O e Na2MoO4, 2 H2O neutralizadas com borato e mantidas à diversas temperatuas (23°c a 75°C) e subsequentemente analisadas por retroespalhamento Rutherford de partículas alfa de 2 MeV a 168°. Foram derminadas çomposições estequiométrica do óxido, as profundidades de camadas de óxido cresçidas, bem como os perfis de distribução dos dopantes de W e Mo.

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