O desenvolvimento da microeletrõnica e da ótica integrada depende da capacidade de produção de um grande nÚmero de conponontes em um mesmo substrato e de regiões de alto contraste a nível microscópico. Ambas as necessidades exigem a produção de máscaras de alta resoloção que permitam transferir por métodos litográficos perfis prédeterminados.
Neste trabalho explora-se a possibilidade de utilizar filmes de halogenetos alcalnos (materiais muito sensíveis a feixes eletrônicos) como elemento de avaliação de qualidade de transferência de perfis projetados.
