A colimação da radiação Laser permite a obtenção de finos feixes de fótons, o que torna esta radiação extremamente atrativa para a confecção de máscaras em microeletrônica. Neste trabalho desenvolvemos uma nova técnica de gravação utilizando também as propriedades de coerência de fase e alto brilho. Obtivemos linhas com largura média de 0,65 um e uma resolução ?2 vezes maior que o processo convencional, o que permite a confecção de máscaras 2 vezes mais densas.
