Construimos um sistema de vácuo para a deposição de filme pela técnica “magnetron sputtering” Foraa projetados e construidos eletrodos de várias configurações com imãs permanentes para o confinamento de plasma. As geometrias empreqadas foram planares (circulares e retangular).Os catodos foram caracterizados pela curva I—V em função da pressão de gás (Argônio). O “magnetron” retangular foi o que apresentou melhores resultados, se comparados com a atuaL bibliografia do assunto.
