OTIMIZAÇÃO DO PROCESSO DE LIMPEZA DO SUBSTRATO

Autores

  • N. G. Dhere
  • R. M. P. Alves

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v6i1-2.717

Resumo

A limpeza de substratos é um dos amis importantes fatores na deposição de filmes finos. O problema se torna muito mais complexo quando se trata de substratos de vidro, ou cerâmica que tiveram um manuseio pouco cuidadoso fora do laborátorio. O trabalho descreve as etapas de um processo eficaz, simples e barato que também evita o uso de insumos importados. O processo otimizado utiliza desengorduramento com éter de petróleo, mergulho em solução de detergente neutro, agitação ultrassônica em solução dedetergente a 60-70°C, mergulho em ácido crômico e fervura em água oxigenada, destilada edeionizada. O trabalho também demostra uma maneira simples e efiucaz de verificar o grau de limpeza além dos testes de uso. Nos testes de limpeza, além de observar-se as figuras de secagem, testou-se oespalhamento de gotas de água, para comparar as diversas variações feitasem torno de diferentes processos

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Publicado

2010-03-18

Edição

Seção

Artigos