CARACTERIZAÇÃO DE FILMES METÁLICOS OBTIDOS POR “MAGNETRON SPUTTERING "

Autores

  • S. Eleutério Filho
  • E. A. Farah
  • S. A. B. Bilac

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v7i1-2.750

Resumo

Filmes finos metálicos foram depositados utilizando—se a técnica “magnetrom sputtering” e caracterizados opticamente através de espectrofotometria e interferometria, obtendo-se resultados de refletividade e espessura respectivamente. A caracterização elétrica destes filmes foi obtida por medidas de resistividade elétrica, cujos resultados serão discutidos.

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