INTERACÃO DA ATMOSFERA RESIDUAL EM FILMES DE ALUMÍNIO,NÍQUEL E TITÂNIO RECÉM-EVAPORADOS

Autores

  • A. A. P. Pohl
  • A. J. Damião

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v7i1-2.751

Resumo

Um elipsômetro fotométrico automático, acoplado a uma câmara de evaporação à vacuo, foi utilizado no estudo da cinética de oxidação, à temperatura ambiente, de filmes de alumínio, níquel e titânio recém-evaporados. São apresentadas e discutidas: (i) as variações dos ângulos elipsométricos ? e ? como função da exposição dos filmes à atmosfera da câmara (P = lxl0-5 Torr);(ii) o crescimento de filmes de óxido de alumínio para diferentes condições do metal evaporado.

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