STUDY OF THE PLASMA EMISSION IN A MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM FOR A-SI:H PRODUCTION

Autores

  • Thiago Daniel de Oliveira Moura CETEC-MG REDEMAT-UFOP
  • Diego Oliveira Miranda IFMG
  • Gilson Ronaldo Guimarães CETEC-MG REDEMAT-UFOP
  • William James Fadgen CETEC
  • José Roberto Tavares Branco CETEC

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v30i1-2.857

Palavras-chave:

Plasma, Hydrogenated Amorphous Silicon, Optical Emission Spectroscopy

Resumo

The use of hydrogenated amorphous silicon, a-Si:H, for solar cell applications has shown interesting possibilities for increasing the efficiency of heterojunctions and reducing costs of solar cells. Hydrogen incorporation in thin films of amorphous silicon is crucial for obtaining good electrical properties because it passivates the dangling bonds in the structure. The study of several parameters that influence the formation of films is necessary to optimize the material properties. In this paper, the optical emission of plasma during film growth by sputtering was studied in order to evaluate the hydrogenation process, at different levels of hydrogen in a H-Ar plasma. The results show the possibility to control such a process through optical emission spectroscopy (OES) without the need to introduce further analysis tools in the reactors.

Biografia do Autor

Thiago Daniel de Oliveira Moura, CETEC-MG REDEMAT-UFOP

Graduado em Física, atualmente é mestrando em Engenharia de Materiais pela REDEMAT - (UFOP, CETEC, UEMG). Tem experiência em especificação técnica e manutenção de equipamentos científicos e também na área de Educação e Divulgação Científica. Atua principalmente nos seguintes temas: Energia Solar, Radiação Solar, Modelos de Iluminância Natural, Alvos cerâmicos de ZnO e ZnO:Al para deposição de filmes finos por e-beam ou sputtering, diagnóstico de plasma via espectroscopia de emissão óptica, sonda de Languimuir e espectrometria de massa.

José Roberto Tavares Branco, CETEC

Graduado e Mestre em Engenharia Metalúrgica pela Federal de Minas Gerais (1978, 1982), doutorado em Metallurgical Engineering pelo Colorado School of Mines (1989) e pós-doutorado pela State University of New York at Stony Brook (1996). Atualmente é Pesquisador Pleno 10 da Fundação Centro Tecnológico de Minas Gerais, professor da Rede Temática em Engenharia de Materiais e Pesquisador A da Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de Minas Gerais (2005-presente). Tem experiência na área de Divulgação Científica, com ênfase em Projeto de Aços Ferramenta, Tribologia, Tecnologias de Recobrimentos e Engenharia de Superfícies.

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Publicado

2014-10-01

Edição

Seção

Ciência e Tecnologia de Plasmas