CONDICIONAMENTO DE CÂMARAS DE VÁCUO POR PLASMAS DE RF

Autores

  • J. I. Elizondo
  • I. C. Nascimento

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v5i1-2.881

Resumo

Nestes últimos anos tem se usado com sucesso em máquinas experimentais de pesquisa em plasma, as quais trabalham com hidrogênio ou deutério, um novo sistema de condicionamento da câmara de vácuo. Consiste basicamente na geração de um plasma de hidrogênio por microondas com temperatura eletrônica baixa (Te~Ev) epequeno grau de ionização (?~1%). Os íons e os atómos neutros gerados na reação e- +H2 ? H+H+e-, bombardeiam asparedes da câmara,combinando-se com os atómos de impureza presentes na superfície e gerando diversos compostos: H2O, CO, CH4, CO2, etc. O sistema de vácuo, que funciona continuamente, retira esses compostos. Desta maneira pode-se diminuir a desgaseificação das impurezas. No TBR(Tokamak Brasileiro) foi construído um sistema de microondas debaixo custo, usando-se uma válvula tipo magnetron (f=2,45GHz,P=800W). As pressões parciais dos gases, antes, durante e depois do condicionamento, foram monitoradas mostrando a eficiência do processo.

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