O objetivo deste trabalho é o desenvolver técnicas de deposição de camadas de óxido de índio e estanho para fins fotovoltaicos. As películas são depositads sobre subtratos de vidro óptico em evaporador convencional. Asfontes de evaporação utilizadas foram índio e estanho metálicos numa primeira fase e óxido de índio e estanho numa segundafase. Os parâmentros dedeposição estudados são: pressãoparcial de oxigênio, temperatura do substrato e a taxa de deposição.
As películas depositadas são caracterizadas em termos de sua espessur, uniformidade, resistência de folha e transmitância óptica
