CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS DE NITRETO DE SILÍCIO AMORFO POR FOTOCONDUTIVIDADE

Autores

  • L. R. Tessler
  • F. Alvarez

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v5i1-2.905

Resumo

O nitreto de silícioamorfo hidrogenado (a-SiNx:H) é potencialmente útil como material de janele em células solares de silício amorfo. Apresentamos medidas de fotocondutividade em função da temperatura para diferentes concentrações de nitrogênio e diferentes dopagens dos tipos n e p. As amostras foram preparadaspordescarga luminescente sobre uma mistura de silano e nitrogênio. Os resultados das medidas nos permitiram obter informações qualitativas sobre a influência do nitrogênio na densidade de estados eletrônicos em algumas regiões do pseudogap, bem como estudar efeitos de dopagem.

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