Desenvolvimento da técnica de deposição de filmes finos por gaiola catódica

Autores

  • Cintia de L. Ravani Bottoni Instituto Federal do Espírito Santo (IFES)
  • Danielly Cristina Gripa Instituto Federal do Espírito Santo (IFES)
  • Leonardo Cabral Gontijo Instituto Federal do Espírito Santo (IFES)

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v32i1-2.958

Palavras-chave:

Deposição por plasma, Gaiola catódica, Filmes finos.

Resumo

O presente trabalho tem por objetivo desenvolver a técnica de Deposição por plasma em descarga de gaiola catódica. Deposições de camadas de nitretos de ferro e de titânio foram realizadas sobre substrato de vidro em gaiola catódica, a partir de condições variadas de temperatura, tempo de deposição e razão da mistura N2-H2. Foram feitas análises de difratogramas de raios-X e ensaios de corrosão. As propriedades eletroquímicas dos filmes foram analisadas por de Espectroscopia de Impedância Eletroquímica (EIE) e curva de polarização, ambos em solução de NaCl 3,5% em peso. Com base nos espectros (EIE) foi possível observar que os filmes depositados possuem uma boa resistência à corrosão.

Biografia do Autor

Cintia de L. Ravani Bottoni, Instituto Federal do Espírito Santo (IFES)

Mestranda/Bolsista e Representante Titular de discentes do Programa de Engenharia Metalúrgica e de Materiais do Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Espírito Santo (IFES, 2012)

Danielly Cristina Gripa, Instituto Federal do Espírito Santo (IFES)

Mestranda em Engenharia Metalúrgica e de Materiais (IFES), graduada em Engenharia Química com ênfase em Produção e Exploração de Petróleo (Faacz). Atuou como monitora no centro academico (Faacz), e participou de atividades de pesquisa envolvendo biocombustível. Atua como professora de um centro estadual de educação técnica (CEET- "Talmo Luiz Silva, João Neiva).

Leonardo Cabral Gontijo, Instituto Federal do Espírito Santo (IFES)

Possui graduação em Licenciatura Plena Em Física pela Universidade Federal do Espírito Santo (1983), mestrado em Mestrado Em Física pela Universidade Federal do Espírito Santo (1996), doutorado em Ciência e Engenharia dos Materiais pela Universidade Federal de São Carlos (2002) e pós-doutorado no Lawrence Berkeley nacional Laboratory (California - USA) (04/2009 A 03/2010). Atualmente é professor de 1o e 2o graus do Centro Federal de Educação Tecnológica do Espírito Santo e do Programa de Pós-Graduação em Engenharia Metalúrgica e de Materiais do IFES. Tem experiência na área de Engenharia de Materiais e Metalúrgica, com ênfase em Tratamentos Superficiais, atuando principalmente nos seguintes temas: nitretação a plasma, estudo sobre a fase S, corrosão e filmes finos depositados por gaiola catódica e por arco catódico filtrado.

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Publicado

2014-10-15

Edição

Seção

Superfícies e Filmes Finos