Segundo, Gesil Sampaio Amarante, Universidade Estadual de Santa Cruz, Brasil

• Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo v. 36 n. 3 (2017) - Ciência e Tecnologia de Plasmas
  Filmes finos de óxido de zinco depositados por RF-magnetron sputtering na presença de oxigênio
  Resumo  PDF