No presente trabalho foi estudado o efeito da razão de mistura de gases N/Ar na estrutura de ligação nos filmes finos de CNx preparados por RF magnetron sputering reativo de um alvo de grafite em um plasma de N2 e Ar. Os filmes, tipicamente de 100 a 160 nm de espessura, foram depositados em substratos de Si (100)em temperatura de 90 °C em pressão de 0,4 Pa. Espectros obtidos para todos os filmes com a espectroscopia do infravermelho por transformadas de Fourier apresentaram uma banda bem definida a 2190 cm-1 que é atribuída a um modo de vibração tripla C?N, confirmando a presença de ligações carbono-nitrogênio. O incremento da razão N2/Ar resultou em um aumento na espessura do filme. Por outro lado, a intensidade da banda a 2190 cm-1 inicialmente cresceu com o aumento da razão N2/Ar e então ficou constante com mais aumento na razão N/Ar.
