CONSTRUÇÃO DE UM SISTEMA DE PULVERIZAÇÃO CATÓDICA DC DE BAIXO CUSTO PARA DEPOSIÇÃO DE FILMES METÁLICOS

Autores

  • E. C. Lima
  • C. A. Guarany
  • E. B. Araújo

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v25i4.44

Resumo

Este trabalho reporta a montagem de um sistema de pulverização catódica DC, de baixo custo e fácil operação, para a deposição de eletrodos metálicos e o recobrimento de superfícies. O projeto permite a utilização de metais como Au, Ag, Pt, Cu, entre outros. Filmes de cobre (Cu) e prata (Ag) foram depositados usando o sistema projetado. Os resultados avaliaram a espessura e a resistência elétrica dos filmes em função do tempo de deposição.

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Publicado

2008-01-19

Edição

Seção

Artigos