ESTUDO DE DEPOSIÇÃO DE Al SOBRE Sn

Autores

  • A. C. Peterlevitz
  • R. A. Douglas
  • R. Landers

DOI:

https://doi.org/10.17563/rbav.v11i1.522

Resumo

Estudou-se filmes finos de alumínio, depositados por evaporação térmica sobre um substrato de estanho, empregando—se Espectroscopia de Elétrons Auger para análise. A observação das linhas Auger devidas ao alumínio com 66 e 1389 eV, as quais tem sensibilidades muito diferentes à superfície, possibilitou formar uma visão a respeito da morfologia. Todas as intensidades foram normalizadas pelos valores respectivos de filmes espessos de Al e Sn. Observou-se que a razão das intensidades normalizadas de Al 66 por Al 1389 é constante e igual a 0,43 ± 0,04 embora a intensidade normalizada de Al 1389 variou de 0,05 a 0,95. Estes resultados são coerentes com o crescimento de um filme composto de ilhas de alumínio cuja superfície exposta seja enriquecida em estanho, através de processo de difusão. Determinações independentes da taxa de adsorção de oxigênio por estes filmes mostraram-se coerentes com este modelo.

Downloads

Edição

Seção

Artigos