Através de estudos por microscopia eletrônica de varredura em filmes finos de ITO (In203:Sn) produzidos sob diferentes condições de deposição (temperatura dos substratos e pressão de oxigênio), foi caracterizada a micro—estrutura resultante do método de deposição em pregado (evaporação resistiva à vácuo).
Dos filmes produzidos, os que apresentaram as melhores propriedades foram aqueles depositados em pressão de oxigênio em torno de 10-3 torr e temperatura dos substratos de 250°C, para uma distância fonte—subtrato de 25cm.
