O trabalho apresenta a técnica de crescimento seletivo de camada de ouro sobre substratos cerâmicos metalizados a vácuo, desenvolvida na Coordenação de Área de circuitos Híbridos do CPqD — Telebrás. Nesta técnica gera—se nos substratos metalizados guias com fotorresiste de alta resolução (AZ 4620) para crescimento de ouro eletrolítico somente nas áreas dos circuitos. Obteve—se pistas condutoras de 4 micra de espessura com excelente definição até dezenas de micra, na fabricação de circuitos híbridos em filme fino para microondas (CIM).
