Tallarico, Denise Aparecida, Universidade Federal de São Carlos, Brasil

• Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo v. 37 n. 2 (2018) - Ciência e Tecnologia de Plasmas
  Influence of the plasma nitriding conditions on the chemical and morphological characteristics of TiN coatings deposited on silicon
  Resumo  PDF