O controle da espessura de filmes finos é de fundamental importância, tanto a nivel de laboratório como a nível de processos industriais em larga escala, uma vez que este parâmetro exerce influência nas propriedades básicas do material, especialmente ópticas, elétricas e estruturais.
Neste trabalho, filmes finos de alumínio foram preparados por r.f. sputtering, tendo sido realizado um estudo detalhado da uniformidade de espessura em uma série de posições do porta—substrato.
Os resultados obtidos possibilitaram a simulação do perfil em espessura sobre toda a área útil do porta—substrato, servindo de orientaço para a utilizaço deste sistema de deposiço (BAE 250) para outros materiais e condiçes experimentais.
