Viana Neto, Bartolomeu Cruz

• Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo v. 38 n. 1 (2019) - Ciência e Tecnologia de Plasmas
  Investigation of FeN and TiN thin films properties for possible application in electronic devices
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• Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo v. 37 n. 2 (2018) - Ciência e Tecnologia de Plasmas
  Influence of the plasma nitriding conditions on the chemical and morphological characteristics of TiN coatings deposited on silicon
  Resumo  PDF